Kimyasal Mekanik Parlatma Cihazları

Kimyasal mekanik yüzey düzeltme veya kimyasal mekanik parlatma işlemi, son derece pürüzsüz ve düzlemsel malzeme yüzeyleri elde etmek için kimyasal ve mekanik (veya aşındırıcı) eylemlerin bir kombinasyonu ile pürüzleri uzaklaştıran bir süreçtir.

Kimyasal mekanik parlatma, genellikle yüzey malzemelerini temizlemek için kimyasal reaksiyonlar ile desteklenen bir parlatma (düzleştirme) işlemi olan kimyasal mekanik yüzey düzeltme (planarizasyon) ile ilişkilendirilir.

Bu işlem, yarı iletken endüstrisinde entegre devreler ve bellek diskleri üretmek için uygulanan standart bir üretim sürecidir. Amaç yüzeydeki malzemeleri uzaklaştırmak olduğunda ise kimyasal mekanik cilalama olarak adlandırılır. Ancak amaç bir yüzeyi düzleştirmek olduğunda buna kimyasal mekanik planarizasyon denir.

Kimyasal mekanik parlatma (CMP), sürtünme ve korozyon arasındaki sinerji nedeniyle tribokimyasal bir süreç olarak kabul edilmektedir. Tribokimyasal, sürtünme bölgesindeki kimyasal reaksiyonlarla ilgilenen kimya dalıdır. Bu reaksiyonlar, eşleşen parçaların yüzey tabakasında mekanik ve fiziko-kimyasal değişikliklere neden olur. İlgili reaksiyonlar, farklı enerji türlerinin ve katalizin sonucudur.

Kısaca kimyasal mekanik parlatma, yarı iletken imalatında yaygın olarak kullanılan nihai bir ana üretim adımıdır. Bu süreçte, parlatma pedi yüzeyi kalıntı ile perdahlanabilir ve uygun işlem koşullarını sürdürmek için yeni bir ped yüzey profili ve topografisini yeniden oluşturmak üzere pedi giydirmek için genellikle bir elmas disk düzeltici kullanılır.

Firmamız, sağlık çalışanlarının ihtiyaç duyduğu çeşitli medikal cihazlar ve ekipman üretmekte, ayrıca test ve analizler gerçekleştirmektedir. Bu çerçevede yarı iletken çözümleri kapsamında kimyasal mekanik parlatma cihazları da üretilmektedir.